原子層沉積設備產品及廠家
atlant 3d 推出了直接原子層加工（direct atomic layer processing，dalp?）技術——全球能實現原子級精度、無掩模直接寫入、多材料原位加工的平臺，可實現選擇性沉積、蝕刻、摻雜與表面改性，并以軟件方式實現高精度實時控制。與傳統 ald “全表面沉積 + 光刻 + 蝕刻”的流程不同，dalp? 讓材料只在需要的位置沉積，真正實現“按需制造”。
更新時間:2025-11-26
上海祥樹歐茂機電設備有限公司成立于1999年，經過多年的努力與良好的信譽度，公司與國際機電行業品牌twk、mts、hydac、masterk、weber、radio-energie、lenord bauer、elcis、ipf、hemomatik等千余家品牌廠商密切合作，形成了個穩定而高效的全球化國際供應鏈體系，竭盡全力為客戶提供服務。
更新時間:2025-11-17
phoenix®系統經過精心設計，可在從中試生產到工業制造的任何制造環境中實現高吞吐量和長的正常運行時間。技術人員和研究人員依靠 phoenix® 在平面和 3d 基板上實現可
更新時間:2025-09-09
veeco 是全球先的原子層沉積 （ald） 系統供應商，為研究和工業提供全面的服務和多功能的交鑰匙系統，這些系統易于訪問、經濟實惠且精確到原子尺度。薄膜沉積是我們的長。我們的 savannah&
更新時間:2025-09-09
我們的 fiji® 系列是一種模塊化、高真空熱原子層沉積系統，采用靈活的架構和多種驅體和等離子體氣體配置，可適應各種沉積模式。fiji g2 是下一代 ald 系統，能夠執行熱成像和等離子體增強沉積。
更新時間:2025-09-09
beneq transform 300 是一個高度通用的制造平臺，面向致力于 cis、電源、micro-oled/led、先進封裝和其他 mtm 應用的 idm 和代工廠。它是一種高度可配置的解決方案，適用于多種高薄膜應用，從柵電介質到鈍化和/或封裝等。
更新時間:2025-09-09
beneq prodigy™ 是 vcsel、led 和 mems 制造商和代工廠的理想制造解決方案，他們希望通過經濟實惠的獨立 ald 批處理工具提高設備性能和可靠性。beneq prodigy 為多種晶圓類型和尺寸提供同類佳的鈍化和/或封裝膜。
更新時間:2025-09-09
beneq transform在其多功能性和適應性方面建立了全新的ald集群工具產品，以滿足廣泛的應用和細分市場的需求。beneq transform 配置多個 ald 工藝模塊，以滿足特定的晶圓容量要求，或者在以后進行升，以響應不斷增長的數量或新的 ald 應用。
更新時間:2025-09-09
beneq c2r 將等離子體增強原子層沉積 （peald） 工藝提升到一個全新的水平 – peald 可用于大批量生產。由于采用等離子體增強旋轉原子層沉積工藝，beneq c2r 是厚原子層沉積膜的理想選擇，甚至可達幾微米。
更新時間:2025-09-09
beneq p400a 為以優化的批量大小涂覆不同類型的基材而設計 - 足夠大以提供顯著的容量，但又足夠小以在批次和較短的循環時間內保持出色的均勻性。我們的客戶將 p400a 用于光學鍍膜和在玻璃或金屬板上使用 ald 的應用。
更新時間:2025-09-09
beneq p800 門設計用于涂覆復雜形狀的大零件或大批量的小零件。我們的客戶將 p800 用于光學鍍膜、半導體設備部件的防腐鍍膜，以及在玻璃或金屬板上使用 ald 的各種應用。
更新時間:2025-09-09
beneq p1500 是我們大的原子層沉積系統，門用于涂覆大型板材和復雜零件。它還用于為較小組件的批次提供更高的吞吐量。我們的客戶將 p1500 用于大直徑基板上的光學鍍膜、半導體設備部件的防腐鍍膜，以及在玻璃或金屬板上使用 ald 的各種應用。
更新時間:2025-09-09
beneq tfs 200 是有史以來靈活的原子層沉積研究平臺，為學術研究和企業研發而設計。beneq tfs 200 經過門設計，可大限度地減少多用戶研究環境中可能發生的任何交叉污染。tfs 500 是薄膜鍍膜應用的理想選擇。作為第一個 beneq 反應器模型，已被證明是用于深入研究原子層沉積研究和穩健批處理的多功能工具。tfs 500 是多項目環境的理想工具。
更新時間:2025-09-09
用于電池、太陽能和柔性電子產品的功能性原子層沉積涂層。 genesis ald 是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應用的理想選擇。
更新時間:2025-09-09
用于電池、太陽能和柔性電子產品的功能性原子層沉積涂層。 genesis ald 是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應用的理想選擇。多種 ald 材料可供選擇，可滿足您的要求。 多年來，beneq 一直是用于研發和工業生產的卷對卷原子層沉積系統的先驅。我們的常用材料包括 al?o?、tio?、zno、zns、sio? 或可根據要求提供的任何其他材料。
更新時間:2025-09-09
ad-230lp是一種原子層沉積（ald）系統，能夠在原子水平上控制薄膜厚度。有機金屬原料和氧化劑交替供給反應室，僅通過表面反應進行薄膜沉積。該系統具有負載鎖定室，且不向大氣開放反應室，因此能夠實現薄膜沉積的優良再現性。
更新時間:2025-09-09
ad-230lp 原子層沉積設備是一種原子層沉積（ald）系統，能夠在原子水平上控制薄膜厚度。有機金屬原料和氧化劑交替供給反應室，僅通過表面反應進行薄膜沉積。該系統具有負載鎖定室，且不向大氣開放反應室，因此能夠實現薄膜沉積的優良再現性。
更新時間:2025-09-09
kurt j. lesker company （kjlc） ald150lx™是一種原子層沉積 （ald） 系統，為高研發 （r&d） 應用而設計。
更新時間:2025-09-09
kurt j. lesker company （kjlc） ald150le™是我們但其靈活的原子層沉積 （ald） 系統，為入門到中用戶而設計。該ald150le™配置為純熱原子層沉積，工藝室設計促進了均勻的母離子分散和輸送。加熱和溫度控制進一步增強了系統性能。總體而言，該ald150le™在緊湊的設計中提供了的靈活性和性能，而不會犧牲可維護性。
更新時間:2025-09-09
tfs 200 是一款適用于科學研究和企業研發的靈活的 ald 平臺。 tfs 200 是為多用戶研究環境中將可能發生的交叉污染降至低而特別設計的。
更新時間:2025-09-09
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